18922924269
語言切換 
中文
鍍膜材料特性對鍍膜效果的影響
鍍膜工藝中，鍍膜材料的特性對鍍膜效果有著至關重要的影響。
首先，鍍膜材料的硬度決定了鍍膜后的表面硬度。如果鍍膜材料本身硬度較高，那么鍍成的膜層也會具有較高的硬度，能夠更好地抵抗刮擦和磨損。
HIPiMS 技術制備的薄膜具有哪些獨特的性能？
HIPiMS技術制備的薄膜具有以下獨特性能：HIPiMS技術能產生高密度的等離子體，使濺射出來的粒子具有較高的能量和活性，粒子在沉積到基底上時能夠更緊密地堆積，形成致密度很高的薄膜
陰極電弧鍍膜機是什么東西
陰極電弧鍍膜機是一種物理 氣相沉積(PVD)技術設備，主要用于在基材表面形成高質量的薄膜涂層。這項技術通過利用電弧放電產生的等離子體，將靶材（通常是金屬或合金）蒸發成原子狀態，然后這些原子沉積到待處理的工件表面
什么是真空鍍膜，它有什么作用
真空鍍膜技術是一種在真空條件下，利用物理或化學方法將材料蒸發或離子化后沉積于基材表面形成薄膜的過程。這種方法廣泛應用于光學、電子、包裝、裝飾等行業，具有許多優點，如薄膜均勻性好、附著力強、厚度可控等。
HiPIMS電源的設計基礎及研究進展
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種物理 氣相沉積（Physical Vapor Deposition, PVD）技術，它通過高頻脈沖放電在磁控濺射靶材表面產生強烈的等離子體，從而實現的材料沉積。HiPIMS技術的關鍵在于其電源設計，因為電源性能直接影響到等離子體密度、薄膜質量和沉積速率等重要參數。