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HIPiMS技術對材料性能有哪些具體影響

HIPiMS技術(高功率脈沖磁控濺射技術)對材料性能的影響主要體現在薄膜的微觀結構、致密度、機械性能以及功能特性等方面。

高功率脈沖是多少赫茲

在工業領域,像高功率脈沖激光加工設備,為實現材料切割、焊接或表面處理,其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時,幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質量的同時,有效控制熱影響區域,防止板材因過熱變形。

反應氣體的選擇和配比如何影響真空鍍膜的成分和性能?

  在化學氣相沉積(CVD)真空鍍膜中,反應氣體的選擇與配比宛如一雙無形卻有力的大手,對鍍膜的成分和性能起著決定性作用。

在光學鍍膜應用中,如何通過控制膜層厚度和折射率來實現特定的光學性能

設備精度保障:使用高精度的鍍膜設備,如采用電子束蒸發或磁控濺射設備,其厚度控制精度可達納米級。這些設備配備膜厚監測儀,實時反饋膜層生長情況,控制提供硬件基礎。

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