18922924269
語言切換 
中文
重慶HiPIMS，低溫ITO沉積的機會！
...
產品及解決方案
應用案例
about us
關于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產基地，具有4條組裝生產線和5條檢測調試線，廠房面積2000+，現有員工20+。是國內專業從事真空鍍膜系統的研發、制造、銷售為一體的國家級高新技術企業。其研發中心位于東莞市松山湖大學創新城，其研發人員均為碩士以上學歷（其中博士6人），在相關領域發表學術論文300余篇。
-
60%
研發人員占比
-
300+
發布學術論文
-
4.5星級
客戶好評
-
50+個
課題合作研發
-
20+個
定制開發項目
企業榮譽
新聞中心
-
重慶2024大灣區高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實驗室成功舉辦
12月14日，由松山湖材料實驗室、哈爾濱工業大學材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室以及等離子體放電團隊孵化的高能脈沖PVD電源企業新鉑科技(東莞)有限公司聯合主辦的“2024大灣區高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實驗室會議中心成功舉行。...
- 2024-12-18 11:47:48 | →
-
重慶2024大灣區高能脈沖PVD論壇在莞舉行
12月14日，“2024大灣區高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實驗室舉辦。此次論壇由松山湖材料實驗室、材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室聯合舉辦，由高能脈沖PVD電源的領軍企業新鉑科技東莞有限公司提供支持。...
- 2024-12-18 10:37:22 | →
-
重慶250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞，共探技術產業融合路徑
12月14日，來自高校、中國科學院、企業的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區高能脈沖PVD高峰論壇”，共同研討高能脈沖PVD（真空鍍膜）領域的研究成果和未來發展趨勢。論壇由松山湖材料實驗室、材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室、新鉑科技（東莞）有限公司聯合舉辦。...
- 2024-12-18 10:34:05 | →
-
重慶2024大灣區高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦，引領行業前沿發展
2024年12月14日，備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實驗室盛大召開。 本次論壇匯聚了北京大學、清華大學、浙江大學、中科院固體所、華南理工大學、哈爾濱工業大學、澳門大學、香港城市大學、季華實驗室以及華為、華星光電等250多位國內該領域的專家、學者以及企業代表，共同探討高能脈沖PVD技術的進展與未來趨勢，為行業的發展注入了新的活力與智慧。...
- 2024-12-18 10:28:35 | →
-
重慶HIPiMS技術對材料性能有哪些具體影響
HIPiMS技術（高功率脈沖磁控濺射技術）對材料性能的影響主要體現在薄膜的微觀結構、致密度、機械性能以及功能特性等方面。...
- 2025-05-15 14:36:02 | →
-
重慶高功率脈沖是多少赫茲
在工業領域，像高功率脈沖激光加工設備，為實現材料切割、焊接或表面處理，其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時，幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質量的同時，有效控制熱影響區域，防止板材因過熱變形。...
- 2025-03-15 10:57:21 | →
-
重慶反應氣體的選擇和配比如何影響真空鍍膜的成分和性能？
在化學氣相沉積（CVD）真空鍍膜中，反應氣體的選擇與配比宛如一雙無形卻有力的大手，對鍍膜的成分和性能起著決定性作用。...
- 2025-03-13 16:58:09 | →
-
重慶在光學鍍膜應用中，如何通過控制膜層厚度和折射率來實現特定的光學性能
設備精度保障：使用高精度的鍍膜設備，如采用電子束蒸發或磁控濺射設備，其厚度控制精度可達納米級。這些設備配備膜厚監測儀，實時反饋膜層生長情況，控制提供硬件基礎。...
- 2025-03-07 10:24:23 | →
重慶管道結垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業發展！
在石油行業，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產效率提高10%~15%。然而，隨著石油產量的增加，也面臨著更多的挑戰，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率（EOR）技術，生產油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，...
-
-
-
重慶真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因為在真空環境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
-
重慶HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術，它利用高頻脈沖電源產生的高密度等離子體來進行材料的濺射沉積。相較于傳統的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術具有更高的離子化率、更好的薄膜質量以及更均勻的薄膜厚度等優點。因此，HiPIMS技術在薄膜沉積領域得到了廣泛的應用，尤其是在制備高質量、高性能薄膜材料方面表現突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →