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HIPIMS是高功率脈沖磁控濺射技術（High power impulse magnetron sputtering）的簡稱，其原理是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來產生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術。

HiPIMS-400A 是由新鉑科技打造的一款適用于高校鍍膜實驗需求的真空鍍膜電源，可直流+脈沖組合輸出，脈沖峰值電流高，具有高離化率，放電密度大、粒子能量高、反應活性好。可作為直流磁控濺射電源的升級替代方案，無需改動即可用于現有磁控系統。抗腐蝕、耐磨損的硬質鍍膜工藝中，高功率脈沖磁控濺射應用是不二之選。

產品特點：

多波形設置，具有反向抑弧能力，膜層更細膩。

特別適合于高校PVD創新工藝的多波形設定。

可手機遠程監視和控制，調節各種參數，遠程關閉電源，監控電源運行情況。

畫面完全同步，指令反饋迅速且精準。走路、吃飯均可控之方便，甚至實驗中途去洗手間也會更從容。