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真空鍍膜和電鍍的區別

真空鍍膜和電鍍都是常見的表面處理技術，用于改善物體外觀和性能。它們有一些共同點，但也存在著一些明顯的區別。下面我將詳細介紹這兩種技術的區別。

HiPIMS：簡單的方法就能調控磁控濺射中的金屬/氣體離子比？

1）磁控濺射：HiPIMS中簡單的脈寬變化，就能調控膜層中的金屬/氣體離子比。

2）常規的磁控靶換成HiPIMS電源就可以達到上述效果。

不平凡的釩靶HiPIMS（放電區直徑約３０ｍｍ放電電流達１４０Ａ）

金屬釩（V）作為一種高熔點的稀有金屬材料，常與鈮、鉭、鎢、鉬并稱為難熔金屬。金屬釩具有耐鹽酸和硫酸的性能，并且耐氣-鹽-水腐蝕的性能要比大多數不銹鋼好。在某些特殊的重要場合，金屬V薄膜常被用來作為高溫隔離防護涂層，因此開展V靶HIPIMS放電特性方面的研究工作具有重要的意義。

6種靶材HiPIMS放電大不相同，設計工藝要知道!

HiPIMS放電，由于工作在放電曲線的特殊區域，其放電特性不僅依賴于使用的氣壓、電壓，更依賴于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脈沖工作，其放電特性具有時間特征，而表現出不同的放電特性。這里我們選用常用的幾種靶材（Cu，Cr，Mo，Ti，V和C），給出了他們的放電特性。這種與時間相關的放電特性，對于工藝設計是非常重要的。

雙脈沖HiPIMS比傳統HiPIMS沉積速率提高近3倍

一種新型的高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)技術，即放電由脈寬短、電壓高的引燃脈沖和脈寬長、電壓低的工作脈沖2部分組成的雙脈沖高功率脈沖磁控濺射技術，目的是解決傳統高功率脈沖磁控濺射沉積速率低的問題。

2023中國真空鍍膜行業發展趨勢高峰論壇圓滿落下帷幕

HiPIMS中不同脈沖波形制備氧化鈮薄膜

在Nb靶氧反應濺射時，用合適的HiPIMS脈沖波形可以抑制進氣遲滯回線，在沒有氣體控制器下同樣能保證工藝穩定性。

真空弧放電下不同尋常的陰極腐蝕圖案

對于真空弧放電下的弧斑導致的陰極材料的腐蝕研究其實由來已久。對于真空弧放電下的弧斑主要有兩種，一種是移動較快、較小、較暗的弧斑，主要發生在較臟的靶面和氧化的靶面；另一種是移動較慢、較大較亮的弧斑，其主要發生在干凈和惰性氣體放電時的靶面。