HIPiMS 技術制備的薄膜具有哪些獨特的性能？

HIPiMS技術制備的薄膜具有以下獨特性能：HIPiMS技術能產生高密度的等離子體，使濺射出來的粒子具有較高的能量和活性，粒子在沉積到基底上時能夠更緊密地堆積，形成致密度很高的薄膜，可有效減少薄膜中的孔隙和缺陷，提高薄膜的阻隔性能，在包裝材料領域能更好地阻擋氧氣、水汽等的滲透，延長包裝內物品的保質期。該技術產生的等離子體能夠對基底表面進行清洗和活化，增強薄膜與基底之間的結合力，使薄膜牢固地附著在基底上，對于一些對附著力要求較高的應用場景非常重要，如刀具涂層，能確保薄膜在高速切削等惡劣工況下依然保持良好的附著狀態，不易脫落。

HIPiMS制備的薄膜通常具有較高的硬度和強度，高強度的離子轟擊效應可以使薄膜的晶粒細化，增加薄膜的結晶度，從而提高其硬度和強度，在制備高熵合金氮化物薄膜時，硬度可達到超硬水平，具有優異的耐磨性能，可應用于航空發動機抗沖刷涂層和切削刀具涂層等領域。在HIPiMS技術的作用下，薄膜的微觀結構可以得到準確調控，可以形成從無定形致密的非晶態到納米晶態、再到柱狀晶的連續變化結構，這種獨特的微觀結構能夠賦予薄膜特殊的物理和化學性能，滿足不同應用場景的需求。HIPiMS技術產生的等離子體分布較為均勻，使得薄膜在大面積沉積時也能保持良好的均勻性，對于大規模生產和大面積應用具有重要意義，如在太陽能電池板、顯示屏等領域，能夠保證薄膜的性能一致性。

由于薄膜的致密度高、結晶度好等特點，使其在高溫環境下依然能夠保持較好的穩定性，不易發生結構變化和性能退化，適用于一些高溫工作環境的應用場景。