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真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因為在真空環境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結合力。
HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術，它利用高頻脈沖電源產生的高密度等離子體來進行材料的濺射沉積。相較于傳統的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術具有更高的離子化率、更好的薄膜質量以及更均勻的薄膜厚度等優點。因此，HiPIMS技術在薄膜沉積領域得到了廣泛的應用，尤其是在制備高質量、高性能薄膜材料方面表現突出。
HIPiMS技術在沉積過程中如何控制薄膜的微觀結構
HIPiMS技術的核心是使用高功率脈沖放電，這導致了等離子體密度和離子化率的顯著提高。通過調整脈沖峰值功率，可以改變濺射粒子的能量分布。較高的功率通常會導致更高的離子化率，從而影響薄膜的致密度和附著力。