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HiPIMS自組織放電高分辨光譜影像學
因磁場約束，以及超高功率放電，高功率脈沖磁控濺射技術（HiPIMS）在放電過程中會存在局部放電增強而導致輝光閃爍的不穩定現象。當不穩定輝光存在時，其放電狀態也有很大差異，輝光會形成不同的放電組織和斑圖形式。伴隨著這些增強型斑圖輝光放電，其內部粒子成分放電狀態如激發與電離存在差異，如何直觀研究這些變化，高分辨光譜影像學是一種有效的手段，可直觀觀察不穩定區域的放電形式與變化。
直流偏壓對HMDSO制備C：SiOX膜層性能的影響
HMDSO制備C：SiOX膜層具有優異的耐腐蝕性能，上篇講到HMDSO/O2比例對膜層成分，耐腐蝕性能與硬度影響。在整個鍍膜過程中，偏壓也是影響HMDSO制備的C：SiOX膜層性能的因素之一。
鋼管內壁沉積的類金剛石膜層的耐腐蝕性能
類金剛石碳(DLC)涂層具有高耐磨性、摩擦系數極低、耐腐蝕性高的優良性能。由于這些優良的性能，DLC涂層在石油天然氣、半導體、醫療和汽車等行業中引起了廣泛的關注。
HiPIMS有無局部離化區的放電對比研究
高功率脈沖磁控濺射技術（HiPIMS）因磁場約束放電，其靶材附近的放電形式變化多樣。放電的不穩定性，等離子體均勻性，等離子體的磁約束情況都是非常值得研究的內容，如等離子體局部離化，電子逃逸等導致的等離子體形狀變化如條形斑圖，環狀斑圖等。
