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高能脈沖PVD技術相比傳統PVD有何優勢?

致密度更高:高能脈沖PVD在沉積過程中,能夠產生高密度的等離子體,使沉積粒子具有更高的能量,從而在基底上形成更致密的膜層。例如,在制備硬質涂層時,其形成的膜層結構更加緊密

高能脈沖PVD技術可以制備哪些膜層?

如氮化鈦(TiN)膜層。TiN具有高硬度、良好的耐磨性和化學穩定性。在刀具涂層領域應用廣泛,通過高能脈沖PVD技術制備的TiN膜層,能夠顯著提高刀具的使用壽命。

高能脈沖 PVD 的基本物理原理是什么?

PVD是在高溫下將靶材蒸發后沉積到工件表面形成鍍膜的技術。高能脈沖PVD是PVD技術的一種改進形式,它的基本物理原理如下:

2024大灣區高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實驗室成功舉辦

12月14日,由松山湖材料實驗室、哈爾濱工業大學材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室以及等離子體放電團隊孵化的高能脈沖PVD電源企業新鉑科技(東莞)有限公司聯合主辦的“2024大灣區高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實驗室會議中心成功舉行。

2024大灣區高能脈沖PVD論壇在莞舉行

12月14日,“2024大灣區高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實驗室舉辦。此次論壇由松山湖材料實驗室、材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室聯合舉辦,由高能脈沖PVD電源的領軍企業新鉑科技東莞有限公司提供支持。

250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞,共探技術產業融合路徑

12月14日,來自高校、中國科學院、企業的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區高能脈沖PVD高峰論壇”,共同研討高能脈沖PVD(真空鍍膜)領域的研究成果和未來發展趨勢。論壇由松山湖材料實驗室、材料結構精密焊接與連接全國重點實驗室、新鉑科技(東莞)有限公司聯合舉辦。

2024大灣區高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦,引領行業前沿發展

2024年12月14日,備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實驗室盛大召開。
本次論壇匯聚了北京大學、清華大學、浙江大學、中科院固體所、華南理工大學、哈爾濱工業大學、澳門大學、香港城市大學、季華實驗室以及華為、華星光電等250多位國內該領域的專家、學者以及企業代表,共同探討高能脈沖PVD技術的進展與未來趨勢,為行業的發展注入了新的活力與智慧。

真空鍍膜的工藝流程是什么

真空鍍膜是一種在材料表面形成薄膜的技術,主要流程包括以下幾個關鍵步驟。

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