真空鍍膜的工藝流程是什么

真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜是一種在材料表面形成薄膜的技術，主要流程包括以下幾個關鍵步驟。

一、鍍前處理

清洗

首先要對基底材料進行清洗。這是因為基底表面的任何雜質，如油污、灰塵、氧化物等，都會影響鍍膜的質量。例如，在光學鏡片鍍膜時，如果鏡片表面有油污，會導致鍍膜的附著力下降，出現膜層脫落的現象。清洗方法包括使用有機溶劑浸泡，如丙酮或乙醇，去除油污，然后用去離子水沖洗，以去除殘留的溶劑和其他水溶性雜質。

烘干

清洗后的基底材料需要進行烘干處理，一般是在真空干燥箱或者在潔凈的環境中自然晾干。確保基底完全干燥是很重要的，因為水分的存在在真空環境下可能會影響鍍膜的純度和均勻性。

二、裝爐與抽真空

裝爐

將經過處理的基底材料放置在真空鍍膜設備的合適位置，如蒸發源和基底的相對位置要根據鍍膜材料的特性和鍍膜要求進行調整。對于大面積的基底鍍膜，要保證基底在蒸發源的有效覆蓋范圍內，以實現均勻鍍膜。

抽真空

關閉真空室后，開啟真空泵，將真空室內的氣壓降低到合適的真空度。一般來說，根據不同的鍍膜工藝，真空度要求在10?3-10??Pa之間。這個過程是為了排除空氣和其他雜質氣體，因為在高真空環境下，鍍膜材料的蒸發和沉積過程可以更純凈、更均勻地進行。

三、鍍膜過程

蒸發源加熱

根據鍍膜材料的性質，選擇合適的蒸發源，如電阻蒸發源、電子束蒸發源等。以電阻蒸發源為例，當電流通過蒸發源材料時，會產生熱量，使鍍膜材料（如金屬鋁）逐漸熔化并蒸發。蒸發的鍍膜材料原子或分子會在真空環境中以直線運動的方式向基底材料表面移動。

沉積鍍膜

蒸發的材料在基底表面沉積，形成薄膜。沉積過程中，要控制好蒸發源的功率、鍍膜時間等參數，以控制膜層的厚度和質量。例如，在制備太陽能電池板的減反射膜時，膜層厚度的控制對于提高電池板的光電轉換效率至關重要。

四、鍍后處理

冷卻

鍍膜完成后，讓基底材料在真空室內自然冷卻或者通過適當的冷卻裝置進行冷卻。這是為了防止膜層在高溫下發生變形或者與基底材料產生熱應力而導致膜層開裂。

質檢

對鍍膜后的產品進行質量檢查，包括檢查膜層的厚度、均勻度、附著力、光學性能等。常用的檢測方法有光學顯微鏡觀察、橢圓偏振儀測量膜厚、劃痕試驗檢測附著力等。只有通過質量檢查的產品才能進入下一個生產環節或者交付使用。