真空鍍膜是什么

真空薄膜的制備，包括金屬、半導體、絕緣體和其他元素或復合薄膜。雖然化學氣相沉積也采用真空壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般的真空鍍膜是指通過物理方法沉積薄膜。真空鍍膜有蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜三種形式。

真空鍍膜技術出現(xiàn)于20世紀30年代，40、50年代開始出現(xiàn)工業(yè)應用，80年代開始工業(yè)大規(guī)模生產，在電子、航空航天、包裝、裝飾、燙金印刷等行業(yè)得到了廣泛應用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下將金屬或金屬化合物以氣相形式沉積在材料(通常為非金屬材料)表面，是一種物理氣相沉積過程。由于涂層往往是金屬薄膜，故又稱真空金屬化。廣義真空鍍膜還包括金屬或非金屬材料表面的高分子真空蒸發(fā)等非金屬功能膜。在所有電鍍材料中，塑料是常見的，其次是紙張涂層。與金屬、陶瓷、木材等材料相比，塑料具有來源充足、性能易于控制、加工方便等優(yōu)點，因此各種塑料或其他高分子材料作為工程裝飾結構材料，大量應用于汽車、家用電器、日常包裝、工藝裝飾等工業(yè)領域。但是塑料材料表面硬度不高,不夠華麗的外觀和耐磨性較低的缺陷,如在塑料表面蒸發(fā),薄薄的一層金屬薄膜,可以給塑料阿爾弗雷德金屬的外觀,合適的金屬源也可以大大增加表面耐磨性,大大拓寬了塑料的裝飾和應用范圍。

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了它的應用領域非常豐富。一般來說，真空鍍膜的主要作用包括使被鍍膜部件表面具有較高的金屬光澤和薄膜材料中的鏡面效果。所述薄膜層具有優(yōu)異的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。