真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜是一種常見的表面處理工藝，常用于制造光學鏡片、太陽能電池板、LED等產品。其主要流程包括以下幾個步驟：

1. 基材清洗：將待處理的基材表面進行清洗，以去除表面的油污、灰塵等雜質，確保表面干凈。

2. 基材加熱干燥：將清洗后的基材進行加熱干燥，以去除表面殘留的水分和揮發性有機物，確保表面干燥清潔。

3. 蒸發源裝載：將需要鍍膜的材料（也稱蒸發源）裝載到真空鍍膜設備中，并通過控制電流或磁控來加熱材料，使其產生蒸汽。

4. 沉積：將基材置于真空鍍膜設備內，使其表面與蒸發源中的蒸汽接觸，使蒸汽沉積在基材表面上形成薄膜。

5. 退火：在完成沉積后，進行退火處理，以提高薄膜的質量和穩定性。

6. 放氣：在完成退火處理后，將真空鍍膜設備內的氣體放出，將基材取出并進行后續的加工處理。

以上就是真空鍍膜工藝流程的主要步驟，通過嚴格控制每個步驟的參數和條件，可以制造出高質量的鍍膜產品。