真空鍍膜時為什么要用到高純氣體

　　真空鍍膜時用到高純氣體的原因，可以歸結為以下幾點，下面將進行詳細闡述：

　　一、減少雜質影響，提升薄膜質量

　　在真空鍍膜過程中，薄膜的質量直接受到所用氣體純度的影響。高純氣體通常指純度較高、雜質含量較低的氣體，使用這樣的氣體可以減少雜質對薄膜質量的影響。即使微小的雜質也可能對薄膜的純度和性能產生不利影響，因此，使用高純度氣體可以限度地減少這種可能性。通過減少雜質的影響，高純氣體能夠確保薄膜具有更高的純度和更優異的性能。

　　二、防止污染，保持沉積過程純凈性

　　某些氣體中可能存在有害的雜質，例如水分、氧氣或其他氣體成分，這些雜質可能對薄膜沉積過程產生不利影響，導致薄膜的污染或不均勻性。高純氣體有助于減少這些雜質的存在，從而保持沉積過程的純凈性。通過減少污染，高純氣體能夠確保薄膜的均勻性和一致性，提高薄膜的整體性能。

　　三、高純氣體在真空鍍膜中的具體應用

　　在真空離子鍍膜中，高純氣體（如氧、氮、氬、乙炔等）在真空條件下放電實現鍍膜。金屬在特定條件下與高純氣體綜合作用形成離子體，在高速作用下撞擊加工工件表面，離子體牢牢粘附在工件表面形成膜層。不同氣體所生產出來的產品色澤也會不一樣，這顯示了高純氣體在真空鍍膜中的重要作用。

　　四、高純氣體對鍍膜工藝和產品性能的影響

　　高純氣體的使用不僅影響鍍膜過程，還直接影響產品的性能。例如，在PVD涂層工藝中，高純氣體的應用可以顯著提高產品表面硬度、耐磨性、耐蝕性、耐熱性以及潤滑性等性能。這些性能的提升對于模具、零件等五金制品的品質和使用壽命有著重要影響，能夠使其更好地發揮產品的潛能。

　　五、總結

　　綜上所述，真空鍍膜時用到高純氣體主要是為了減少雜質影響、防止污染、保持沉積過程純凈性，并確保薄膜具有優異的性能。高純氣體在真空鍍膜中的應用不僅體現了現代化工技術的精湛水平，也為各行各業提供了更高質量、更高性能的產品。隨著科技的不斷進步和工業生產的不斷發展，高純氣體在真空鍍膜領域的應用將會越來越廣泛，為人類的科技進步和社會發展做出更大的貢獻。